牛津仪器 Plasma100 PECVD 等离子体原子层离子束刻蚀沉积系统
牛津仪器 Plasma100 PECVD 等离子体原子层离子束刻蚀沉积系统  缩略图1
牛津仪器 Plasma100 PECVD 等离子体原子层离子束刻蚀沉积系统  缩略图2
牛津仪器 Plasma100 PECVD 等离子体原子层离子束刻蚀沉积系统  缩略图3

牛津仪器 Plasma100 PECVD 等离子体原子层离子束刻蚀沉积系统

品牌:Oxford Instruments 型号:Plasma100 PECVD
官方指导价 面议 None 限时优惠

购买即送:原厂校准证书 + 专业安装调试服务 + 三年延保服务

三年质保

整机质保三年

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技术参数

PlasmaPro 100 PECVD 等离子体、原子层、离子束刻蚀沉积系统 - 牛津仪器

设计PECVD工艺模式的目的是要在控制薄膜性能,如折射率、应力、电学特性和湿法化学刻蚀速率的前提下,生产均匀性好且沉积速率高的薄膜。

  • 高质量的薄膜,高产量和出色的均匀性
  • 电极的适用温度范围宽
  • 兼容200mm以下所有尺寸的晶圆
  • 可快速更换硬件以适用于不同尺寸的晶圆
  • 成本低且易于维护
  • 电阻丝加热电极,最高温度可达400°C或1200°C
  • 实时监测清洗工艺, 并且可自动停止工艺

通过均匀的高导通路径连接的腔室,将反应粒子输送到衬底

在维持低气压的同时,允许使用较高的气体通量

高度可变的下电极

充分利用等离子体的三维特性,在优秀的高度条件下,衬底厚度最大可达10mm

电极的温度范围宽(-150°C至+ 400°C),可通过液氮,液体循环制冷机或电阻丝加热

可选的吹排及液体更换单元可自动进行模式切换

由再循环制冷机单元供给的液体控温的电极

出色的衬底温度控制

射频功率加载在喷头上,同时优化气体输送

提供具有低频/射频切换功能的均匀的等离子体工艺,可精确控制薄膜应力

ICP源尺寸为65mm,180mm,300mm

确保200mm晶圆的工艺均匀性

高抽气能力

提供了更宽的工艺气压窗口

晶圆压盘与背氦制冷

更好的晶片温度控制

产品核心优势

卓越的性能表现

采用最新一代数字信号处理技术,提供更高的采样率和带宽,确保测量结果的准确性和可靠性。先进的噪声抑制算法让您能够捕获更细微的信号细节。

先进的触发系统

支持多种触发模式,包括边沿触发、脉宽触发、斜率触发、视频触发等,满足各种复杂信号的捕获需求。

丰富的测量功能

内置超过30种自动测量功能,包括电压、时间、频率、相位等参数的一键测量,大大提高工作效率。

智能软件分析

配备专业的PC端分析软件,支持远程控制、数据采集和高级分析功能,方便进行数据后处理和报告生成。

人性化操作界面

10.1英寸高清电容触摸屏,配合直观的用户界面设计,让操作更加简单流畅,大幅提升使用体验。

广泛应用领域

消费电子

广泛应用于手机、平板电脑、智能穿戴设备等消费电子产品的研发、生产和质量检测,确保产品性能符合设计要求。

汽车电子

用于汽车电子控制系统、传感器、车载通信等领域的测试与验证,保障汽车电子系统的稳定性和安全性。

通信与物联网

支持无线通信模块、物联网设备、射频电路等的测试,确保通信质量和数据传输的可靠性。

教育与科研

是高校实验室、科研机构进行电子工程教学和科学研究的理想工具,帮助培养创新型工程技术人才。

航空航天与国防

满足航空航天和国防领域对高精度、高可靠性测试设备的严苛要求,保障关键系统的正常运行。

专业技术支持

我们提供的服务

  • 免费安装调试:专业工程师上门安装、调试和操作培训
  • 三年整机质保:非人为损坏免费维修或更换
  • 终身维护服务:超过质保期仅收取成本费用
  • 24小时技术热线:随时解答您的技术疑问
  • 定期校准服务:提供专业的计量校准服务
  • 软件升级服务:终身免费固件升级

服务保障

我们承诺为您提供最优质的服务体验

免费配送

订单满5000元全国免费配送,专业防震包装

免费安装

专业技术人员上门安装调试,现场培训

质保三年

整机质保三年,终身维护,定期校准

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